ring for kjemisk-mekanisk polering

...CMP-ringen laget av PEEK er designet for optimal ytelse i kjemisk-mekanisk poleringsprosesser (CMP), og tilbyr overlegen holdbarhet og kjemisk motstand. Laget av høyytelses polyetereterketon (PEEK), utmerker disse ringene seg i høytemperaturmiljøer og har utmerket slitasjemotstand, noe som gjør dem ideelle for krevende applikasjoner i halvlederindustrien. Med en lav friksjonskoeffisient og eksepsjonelle mekaniske egenskaper, garanterer CMP-ringene av PEEK presisjon, stabilitet og effektivitet, noe som bidrar til økt produktivitet og forlenger levetiden til komponentene i deres CMP-systemer.