kjemisk mekanisk poleringsring

...PEEK CMP-ringen er konstruert for optimal ytelse i kjemisk mekanisk polering (CMP) prosesser, og tilbyr overlegen holdbarhet og kjemisk motstand. Produsert av høyytelses Polyether Ether Ketone (PEEK), utmerker disse ringene seg i høytemperaturmiljøer og viser utmerket slitasjemotstand, noe som gjør dem ideelle for krevende applikasjoner i halvlederindustrien. Med lav friksjon og eksepsjonelle mekaniske egenskaper, sikrer PEEK CMP-ringer presisjon, stabilitet og effektivitet, noe som bidrar til økt produktivitet og forlenget komponentliv i CMP-systemene dine.