Plasma Overflatebehandling | Pico - Lavtrykk Plasma Overflatebehandlingssystem, Plasma Rengjøring

Plasmaanleggene fra Diener electronic har lenge vært anerkjent i en rekke ulike industrier. Med Pico lavtrykksplasmaanlegget satser du på moderne og bærekraftig kald plasma-teknologi under vakuum. Volumet på kammeret, som er mellom 5 og 8 liter, gir tilstrekkelig plass for laboratorier og serieproduksjon. Behandling med lavtrykksplasma er en velprøvd teknikk for kontrollert finrensing, forbedring av vedheft (aktivering og etsing) og påføring av tynne lag på substratoverflater. Plasmaet genereres ved bruk av høyfrekvent spenning i vakuumkammeret. Behandlingsgassen som introduseres, blir deretter ionisert. Bruksområder: - Rensing av organiske rester uten VOC - Aktivering før maling, liming, innkapsling, ... - Etsing av PTFE, fotofølsom lakk, oksidlag, ... Mål (bordmodell): 310 - 560 mm x 330 - 860 mm x 420 - 600 mm (LxHxD) Mål (gulvmodell): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (LxHxD) Vakuumkammer (materiale): Rustfritt stål, Aluminium, Kvartsglass, Borosilikatglass Vakuumkammer (mål): ca. B 160 mm x H 160 mm x D 200 - 300 mm; Ø 130 mm, D 200 - 320 mm Vakuumkammer (volum): ca. 5 - 8 liter Vakuumkammer (lukking): lokk, hengslet dør Gassforsyning: Nålventiler / Massestrømmålere (Mass-Flow-Controller (MFCs)) Trykkmåling: Pirani, Kapasitiv manometer (for korrosiv gassversjon) Generatorer: 40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Elektroder: En eller flere nivåer Kontrollsystemer: Semi-automatisk, Rotasjonsknapp, Basic PC, Full PC Strømforsyning: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuumpumper: Sugestyrke: 6 m³/h