Aluminiumoksid keramisk plate - 95 96 99 aluminiumoksid keramisk plate

Aluminiumoksid (Al2O3) 96% keramiske plater brukes mye i tykke filmkretser i elektronikkindustrien. Store integrerte kretser, krafthybrid IC, halvlederpakker, stykke-film motstander, nettverk, motstander, fokuseringspotensiometer osv. I henhold til kundenes krav kan vårt selskap produsere produkter av spesielle typer og spesifikasjoner. Alumina keramisk substrat / plate spesifikasjon: > 10x10x1mm, 20x20x2mm, 40x40x8mm, 100x60x8mm, 150x150x12.5mm, 200x200x25mm osv. > Tykkelsen på keramisk plate varierer fra 0,25 til 1,0mm Kan lages i henhold til dine krav. Renhet:: 92%, 95%, 96%, 99%, 99,7% Tykkelsen på keramisk plate varierer:: fra 0,25 til 1,0mm Bruk: tykke filmkretser i elektronikkindustrien